Już dziś ruszył najważniejszy plebiscyt związany z muzyką elektroniczną – DJ Mag Top 100 Dj's. Swoje głosy klubowicze z całego świata mogą oddawać do 23 Września 2010 roku.

http://www.top100djs.net/

Ja się pewnie wstrzymam do września z moim głosem. Szkoda jednak że to głosowanie nie jest podzielone na dwie kategorie: DJ'i i producentów.

1. Leon Bolier
2. Gareth Emery
3. Markus Schulz
4. W&W
5. Armin van Buuren

1. Ronny K.
2. Andy Blueman
3. Armin van Buuren
4. Aly & Fila
5. Nitrous Oxide

chciałbym tu jeszcze dodać Seana Tyasa i Simona Pattersona.

maluteńki offtop - podobnie jest np z wydawanymi czasopismami - w połowie/pod koniec miesiąca pokazuje się wydanie na miesiąc następny, mimo że jeszcze nie upłynął, nie wiem co za ziomek, to wymyślił. nie widzę najmniejszego sensu takiego systemu.
Rok 2010 powinien być podsumowany z początku roku 2011, ale to tylko moje odczucie, systemu nie zmienię

Ja z głosem DJ Mag'a wstrzymam się do ostatniej chwili. Jak w zeszłym roku.
Odnoszę wrażenie że coraz prędzej jest zakończenie plebiscytu: 23 września?

Ja tam pierd**le ten plebiscyt... i tak wygra grający w kółko te same, nudne wałki Armin, w czołówce będzie Tesco, bo wydał pedalską płytę, Markus Schulz, na którego setach można zasnąć na stojąco, PvD, bo był dobry 10 lat temu, David Guetta, który tworzy pop, Above & Beyond, u których sytuacja podobnie, jak u Schulza itp. itd. O kant dupy ten plebiscyt na NAJPOPULARNIEJSZEGO DJa.

Ale jeśli bym miał głosować, to zrobiłbym to tak:

1. Leon Bolier
2. W&W
3. Super8 & Tab
4. Joris Voorn
5. Simon Patterson

Tak, trudno się nie zgodzić z B0BS0N'em bo pewnie tak się rozłożą głosy.

To jest głosowanie na popularność i dobry spam

Ten plebiscyt nigdy nie był zrobiony ze względu na umiejętności. Jeśli by tak było, czołówka wyglądała by zupełnie inaczej.

Guetta na 3 miejscu... Raczej na pewno klasyfikacja będzie wyglądać tak:
AvB
Tiesto
Guetta
A&B
PvD

mogą się jedynie zmienić miejscami. Mam nadzieję na awans dla Ronny'ego K. (btw. sprawnie po polsku pisze), Pattersona, Tyasa, N2O, A&F